产品简述:
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WEP是全球电化学CV设备的领导厂商,本设备可适用在多种不同的材料上,例如:Group IV (Si、Ge、SiC),Group II/VI (GaAs、InP …),Group II/VII ( CdTe、HgCdTe、 ZnO …),Nitrides (GaN、AlGaN … ), AlGaAs、GaInP、AlGaInP …) CVP 21的净室和模组化的系统设计结构使得本系统可以高效率,准确的测量半导体材料(结构,层)中的掺杂浓度分布。 CVP 21采用模组化的系统设计结构,可以准确的测量半导体材料中的掺杂浓度分布.选用合适的电解液与材料接触,腐蚀,从而得到材料的掺杂浓度分布。电容值电压扫描和腐蚀过程由软体全自动控制电容值电压扫描和蚀刻过程由软体全自动控制。
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