產品簡述:
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WEP 是全球電化學CV設備的領導廠商,本設備可適用在多種不同的材料上,例如:Group IV (Si、Ge、SiC),Group II/VI (GaAs、InP …),Group II/VII (CdTe、HgCdTe、 ZnO …),Nitrides (GaN、AlGaN … ), AlGaAs、GaInP、AlGaInP …) CVP 21 的淨室和模組化的系統設計結構使得本系統可以高效率,準確的測量半導體材料(結構,層)中的摻雜濃度分佈。 CVP 21 採用模組化的系統設計結構,可以準確的測量半導體材料中的摻雜濃度分佈.選用合適的電解液與材料接觸,腐蝕,從而得到材料的摻雜濃度分佈 。電容值電壓掃描和腐蝕過程由軟體全自動控制
電容值電壓掃描和蝕刻過程由軟體全自動控制。
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