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產品介紹
磷化銦 (InP) 基板。
III-V族化合物半導體材料由III族元素銦(In)和V族元素磷(P)結合而成。
應用特性:飽和電子漂移速度高、適合低損耗光纖通訊的發光波長、抗輻射能力強、導熱性能好、光電轉換效率高、禁帶寬度大。
應用範圍:廣泛應用於光模組元件、感測器元件、高階射頻元件等製造。
磷化銦 (InP) 基板。
III-V族化合物半導體材料由III族元素銦(In)和V族元素磷(P)結合而成。
應用特性:飽和電子漂移速度高、適合低損耗光纖通訊的發光波長、抗輻射能力強、導熱性能好、光電轉換效率高、禁帶寬度大。
應用範圍:廣泛應用於光模組元件、感測器元件、高階射頻元件等製造。